ラボラトリー

高温壁レトルト炉 最高温度 1100 ℃

自動ガスパージおよびプロセス制御装置H 3700 を装備した NRA 150/09 ガスパージキットを装備したNRA 25/06

NRA ../06 機種の炉内加熱

レトルト用差し込み式クイックロック、電動式も追加装備で可能

高温時の開閉に平行開閉式スイングドア(追加装備)

NRA 17/06 ~ NRA 1000/11

密閉型レトルト炉には、温度に相応して直接あるいは間接的加熱方式を採用します。所定の不活性ガスあるいは反応ガス雰囲気が要求される多様な熱処理プロセスに最適です。最高 600 ℃ 迄の真空下の熱処理にもこのようなコンパクト機種を応用できます。炉室は密閉型レトルトで構成されています。ドア領域は特殊シールを保護する水冷方式を採用しています。水素のような反応ガスの使用にも相応の安全技術を採用しています。また、IDB 装備では不活性ガスでの脱バインダーあるいは熱分解が可能です。

プロセスに要求される温度領域に対応して、以下に列記する種々の機種が採用されます:

NRA ../06 機種、最高温度 650 ℃

  • レトルト内部に配備された発熱体
  • 100 ~ 600 迄の有効空間における温度均一性は最高 +/- 6 °C
  • ステンレス製レトルト (1.4571)
  • レトルト後方部に装備された循環ファンによる最適な温度均一性を確保

NRA ../09 機種、最高温度 950 ℃

  • レトルト周辺を発熱体で外側から加熱
  • 200 ~ 900 迄の有効空間における温度均一性は最高 +/- 6 °C
  • ステンレス製レトルト (1.4841)
  • レトルト後方部に装備された循環ファンによる最適な温度均一性を確保

NR ../11 機種、最高温度 1100 ℃

  • レトルト周辺を発熱体で外側から加熱
  • 200 ~ 1050 迄の有効空間における温度均一性は最高 +/- 8 °C
  • ステンレス製レトルト (1.4841)
 

NRA 480/04S NRA 50/09 H2

レトルトの室温真空用ポンプ

基本装備

  • フレーム構造のコンパクトなケーシングとステンレス製のプレート
  • 制御およびガスパージを炉ケーシングに統合
  • 空気循環式炉の中のレトルトもしくはエアバッフル容器に溶接されたチャージ架台
  • 開放型水冷システムを装備した右開きドア
  • 炉の大きさにより950 用と1100 用の制御装置を一カ所または複数箇所の加熱ゾーンに分配しています。
  • レトルト外部の温度計測を装備したー炉温度制御
  • 不燃性の保護ガス反応ガスでのガスパージシステム、フローメーターおよびソレノイドバルブで制御
  • 600 迄真空を可能にする真空ポンプのオプション
  • 室温真空用の真空ポンプの接続が可能
  • 操作説明書の枠内における規定どおりの使用
  • プロセス制御装置 H 1700 (または650 版 P330)

追加装備

  • その他の不燃性ガスに対応した装備
  • 流出量変化に対応するMFC・流量装置を含む自動ガスパージ、プロセス制御装置H 3700による制御
  • 600 迄レトルトの真空を可能にする真空ポンプの機種によっては真空度 10-5 mbar を実現
  • プロセス時間を短縮する冷却システム
  • 閉鎖循環系水冷熱交換器によるドア冷却
  • 残存酸素量の測定装置
  • ドアヒーター
  • レトルト内部・外部の温度計測を装備したチャージ温度制御
 

NRA 300/09 H2 は水素雰囲気下での熱処理用 フォークリフトによる NRA 300/06 炉への装入
可燃性プロセスガスで稼動するH2タイプ

水素のような可燃性プロセスガスを使用する応用領域のレトルト炉には、それに求められる安全技術を追加装備して納入します。安全に関するセンサーには相応の認証を受けた実証済みの部品だけを採用しています。炉の運転は、誤作動無く確実に作動する PLC 制御システム (S7-300F/安全制御) でコントロールされます。

  • 可燃性プロセスガス流入は相対圧 50 mbar の過圧に制御
  • 認証許可済みの安全構想
  • データ入力用PLC制御およびグラフィックタッチパネルを備えたプロセス制御装置 H 3700
  • 水素流入用冗長バルブ
  • 全プロセスのガス圧許容値を監視
  • 不活性ガスを炉室内に安全にパージするためのバイパス
  • 熱方式アフターバーニング用排ガスフレア装置
  • 誤作動時に非常用ガスを炉に送り込むパージ容器
 

熱方式アフターバーニングを備えたNR 150/11 IDB

不活性保護ガス雰囲気下での脱バインダーおよび熱分解のためのIDB仕様

NR および NRAシリーズのレトルト炉は、不活性性保護ガス雰囲気下の脱バインダー処理あるいは熱分解プロセスに最適です。IDBタイプの炉は、炉の監視と不活性ガスパージ機構を備えた安全構想が採用されています。排ガスは排ガスフレア装置で焼却されます。安全運転を確保するため、パージおよびフレア機能は共に監視されます。

  • 相対圧 50 mbar の過圧に制御されたプロセス進行を監視
  • データ入力用PLC制御およびグラフィックタッチパネルを備えたプロセス制御装置 H 1700
  • プロセスガス圧の許容値を監視
  • 不活性ガスを炉室内に安全にパージするためのバイパス
  • 熱方式アフターバーニング用排ガスフレア装置
機種最高温度 機種最高温度有効空間寸法 (mm)有効容量電気
  奥行き高さ(リットル)接続*
NRA 17/..650 または 950NR 17/11110022535022517三相
NRA 25/..650 または 950NR 25/11110022550022525三相
NRA 50/..650 または 950NR 50/11110032547532550三相
NRA 75/..650 または 950NR 75/11110032570032575三相
NRA 150/..650 または 950NR 150/111100450750450150三相
NRA 200/..650 または 950NR 200/1111004501000450200三相
NRA 300/..650 または 950NR 300/111100590900590300三相
NRA 400/..650 または 950NR 400/1111005901250590400三相
NRA 500/..650 または 950NR 500/1111007201000720500三相
NRA 700/..650 または 950NR 700/1111007201350720700三相
NRA 1000/..650 または 950NR 1000/11110087013508701000三相
*接続電圧に関する注記は60ページを参照
 

低温壁レトルト炉 最高温度 2400 ℃ または 3000 ℃

タングステンヒーターを装備した SVHT 9/24-W

黒鉛加熱モジュール

タングステンヒーターを装備した円筒状レトルト

冷却水の分配

SVHT 2/24-W ~ SVHT 9/30-GR

SVHT シリーズのレトルト炉は VHT機種 (54 ページ以降) と比較して、真空度や最高温度の性能が更に優れています。タングステンヒーターを装備した SVHT ..-W シャフト炉は、高真空度でも最高温度 2400 ℃のプロセスが可能です。黒鉛ヒーターを装備したシャフト炉 SVHT ..-GR 機種は希ガス雰囲気では最高温度 3000 ℃のプロセスも可能です。

  • 標準型炉室容量は 2 または 9 リットル
  • 上から装入するシャフト炉
  • ステンレスプレートを組み込んだフレーム構造
  • 水冷式二重壁構造のステンレススチール容器
  • 手動操作によるプロセスガス機能および真空機能
  • 手動操作による不燃性プロセスガスパージ装置
  • 人間工学的装入高さを実現するステップを炉の前に設置
  • ガス圧ダンパーを装備した容器カバー
  • 炉のハウジングに統合された作動・制御装置
  • 操作説明書の枠内における規定どおりの使用
  • 標準製品のその他の性能は54 ページ以降の VHT 標準モデルの内容を参照

ヒーターの選択肢

SVHT ..-GR

  • 適用プロセス:
    • 不活性/活性ガス雰囲気または真空下で、適した上限温度の監視
    • 希ガス (アルゴン、ヘリウム) 雰囲気で、最高温度は 3000
  • 使用するポンプのタイプに応じて、 10-4 mbar 迄の真空度
  • 加熱:円筒状に配備された黒鉛発熱体
  • 断熱:黒鉛断熱
  • 光学式パイロメーターによる温度計測

SVHT ..-W

  • 不活性/活性ガス雰囲気または真空下のプロセスで、最高温度 2400 に対応
  • 使用するポンプのタイプに応じて、 10-5 mbar 迄の真空度
  • 加熱: 円筒状に配備されたタングステン加熱モジュール
  • 断熱:タングステンおよびモリブデン製のスチールプレート
  • サーモエレメントのCタイプによる温度測定
  • プロセスガスの自動制御や可燃性ガスを使用するプロセス、安全システム等に対する追加装備は54ページ以降の VHT 機種を参照
機種最高温度有効空間寸法 (mm)有効容量外形寸法 mm加熱能力電気
 Ø x 高さ (リットル)奥行き高さkW1接続*
SVHT 2/24-W2400150 x 1502,513002500200055三相
SVHT 9/24-W2400230 x 2309,514002900210095三相
         
SVHT 2/30-GR3000150 x 1502,514002500210065三相
SVHT 9/30-GR3000230 x 2309,5150029002100115三相
1接続負荷は仕様によって上昇 *接続電圧に関する注記は60ページを参照
 

低温壁レトルト炉 最高温度 2400 ℃

CFCプロセスケースと水素を使用した運転用の拡充パッケージ付きVHT 500/22-GR H2 ファイバー断熱と二珪化モリブデン発熱体付きのVHT 8/18-KE

VHT 8/16-MO による水素雰囲気下での胴棒材の熱処理

VHT 8/18-GR - VHT 500/18-KE

コンパクトタイプの VHT シリーズは、黒鉛、モリブデン、タングステンまたは MoSi2 を加熱装置として採用した電気加熱式チャンバー炉です。多様な加熱構想の他にも、レトルト炉はアクセサリーも包括的に取り揃えているため、厳しい技術が要求されるプロセスにも適用できます。

真空密封型プロセス容器は、不活性/反応ガス雰囲気下での熱処理プロセスを可能にします。炉の仕様によっては最高 10-5 mbar の真空度を確保します。基本型炉は不燃性の保護ガス反応ガス雰囲気下あるいは真空下での運転に適しています。 H2タイプは水素またはその他の可燃性ガスを使用する運転に適しています。このタイプの中核をなすのが認証許可済みの安全装備です。いかなる時も安全運転を確保すると同時に、エラー発生時には相応の非常プログラムが作動します。

加熱仕様の選択肢

基本的に以下のプロセス要求用のモデルが入手可能です

VHT ../..-GR、黒鉛を採用した断熱および加熱

  • 不活性/反応ガス雰囲気または真空下のプロセス
  • 最高温度 : 1800 または 2200 (2400 °C は追加装備)
  • 使用するポンプのタイプに応じて、10-4 mbar 迄の真空度
  • 黒鉛断熱

モリブデンまたはタングステン製ヒーターを装備したVHT ../..-MO またはVHT ../..-W

  • 不活性/反応ガス雰囲気または高真空下の高純度プロセスに適用
  • Tmax は 1200 、1600 または 1800 (表を参照)
  • 使用するポンプのタイプに応じて、10-5 mbar 迄の真空度
  • モリブデンならびタングステン放射プレートによる断熱

VHT ../..-KE、ファイバー断熱および二珪化モリブデン発熱体による加熱

  • 不活性/反応ガス雰囲気、大気または真空下のプロセスに適用
  • 最高温度 1800
  • 使用するポンプのタイプに応じて、10-2 mbar (最高 1300 ) 迄の真空度
  • 高純度の酸化アルミニウムファイバーによる断熱
 

全機種の標準装備

黒鉛製の挿入式加熱装置

モリブデン製ヒーター

タングステン製ヒーター

セラミックファイバーによる遮断

基本装備

  • 標準型炉室容量は 8 - 500 リットル
  • 耐熱性 Oリングでシールされた全面水冷式のステンレス製プロセス容器
  • 鋼鉄製プロファイルから成る堅牢なフレームは、ステンレス製カウリングが取り外しできるためメンテナンスが容易
  • VHT 8 のケーシングには炉の走行を容易にするローラーを装備
  • 順流・逆流を手動で開閉できるコックを備えた水冷配分器、自動流量監視、開放型冷却システム
  • 流量や温度の表示および超過温度の安全装置を備えた調整可能な水冷循環システム
  • スイッチボードおよび制御器をケーシングに統合
  • プログラムを入力し可視化する 7“ インチ タッチパネルを備えたプロセス制御装置H 700。20セグメント構成のプログラムを10種類保存可能
  • 手動設定可能な過昇温計 (熱保護等級 2、EN 60519-2 に準拠)
  • プロセス機能および真空機能の手動操作
  • プロセスガスの (N2 または Ar) の流量を調整可能な手動式ガスパージ
  • 手動バルブを装備したバイパスで不活性ガスを炉室内にスピーディに充填・パージ
  • 加圧下での炉の運転用オーバーフローバルブ (相対圧 20 mbar) を装備した手動式ガスアウトレット
  • ボールコックを装備した一段型ロータリースライドポンプによる予備排気、および最高 5 mbar の低真空熱処理
  • マノメーターで圧力監視を可視化
  • 操作説明書の枠内における規定どおりの使用

追加装備

  • モデルVHT 40/..-GRより最高温度2400
  • ケーシング区分して小型のドア開口部から装入可能なオプション (VHT 8)
  • セカンドプロセス (N2 または Ar) 用に流量調整可能な手動型ガスパージおよびバイパス
  • モリウデン、タングステン、黒鉛またはCFC製のプロセス容器、特に解離プロセスに奨励。ガス注入排出が直接可能なケーシングは炉室に設置され、温度均一性が向上します。 脱バインダーの間、バインダーを含む排ガスは直接内側から排出されます。脱バインダー後のガスパージの入れ替えにより、焼結過程の間にプロセスガス雰囲気が浄化されます。
  • 装入物に取り付けた表示付きの熱電対
  • 最高温度 2200 用の機種はパイロメーター、Sタイプの熱電対および自動取り出し装置を備え、低温領域における卓越した制御効果を発揮 (VHT 40/..-GR 以降)
  • ボールコックを装備した二段型ロータリースライドポンプによる予備排気、および中真空熱処理(最高10-2 mbar)
  • シャットオフスライドを備えたターボモレキュラーポンプによる予備排気、および高真空熱処理(最高10-5 mbar)。電気圧力センサーおよびプライマリーポンプを含む
  • その他の真空ポンプについてはお問い合わせください。
  • 閉鎖循環式水冷熱交換器
  • プロセス制御装置H 3700 を備えたオート装備
    • 12インチのグラフィックタッチパネル
    • 温度、加熱レート、ガスパージ、真空等の全プロセスデータをタッチパネルで入力
    • プロセス制御画面上でプロセスに関与する全データを可視化
    • 流量調整可能なプロセスガス(N2、アルゴンまたはフォーミングガス)用の自動ガスパージ
    • プロセスガスを容器にパージ・充填するためのプログラム制御式バイパス
    • 炉の安全運転に向けて、漏洩チェックを含め、予備・後続プログラムの自動化
    • 加圧下での炉の運転用ベローズバルブおよびオーバーフロバルブ (相対圧 20 mbar) を装備した自動ガス排気
    • 絶対圧および相対圧用の圧力センサー
  • 流量変更を質量・流量制御する他、セカンドプロセスガスで混合ガスを発生させる装置 (オート装備を採用した場合のみ)
  • 分圧運転: 負圧制御下での不活性ガス流入 (オート装備を採用した場合のみ)
  • NCC による PC 制御によるドキュメンテーション、および運用サイドの PC ネットワークへの結合
 

VHT 40/16-MO H2 電動リフトドアとグローブボックスに接続されたフロントフレームつきVHT 40/22‑GR

最高 5 mbar の低真空下熱処理に用いられる一段型ロータリースライドポンプ

最高 10-2 mbar の真空熱処理に使用される二段型ロータリースライドポンプ

プライマリーポンプ付きのターボモレキュラーポンプは最高 10-5 mbar 真空下熱処理に使用

水素やその他の可燃性ガスを使用した運転用の H2 タイプ

H2仕様は水素およびその他の可燃性ガス下でレトルト炉運転が可能。必要とされる安全技術が炉に追加装備されています。安全に関するセンサーには相応の認証を受けた実証済みの部品だけを採用しています。エラーフリーの制御装置 (S7-300F/安全制御) で炉の運転がコントロールされます。

  • 認証許可済みの安全構想
  • オート装備 (上記の追加装備を参照)
  • 水素流入用冗長バルブ
  • 全プロセスのガス圧許容値を監視
  • 不活性ガスを炉室内に安全にパージするためのバイパス
  • 自動的に開放するソレノイドバルブを備えた圧力監視付き非常パージ容器
  • H2アフターバーニング用の排ガスフレア (電気またはガス加熱式)
  • 運転雰囲気: 室温以上で過圧 (相対圧 50 mbar) に制御されたプロセス容器で H2を流入

追加装備

  • 750 以上の炉温で負圧 (分圧) に制御されたプロセス容器で H2 を流入
  • 水素雰囲気下の脱バインダー処理のためにプロセス容器内に収納されたプロセスケーシング
 

水素対応の拡充パッケージとプロセス容器つき VHT 8/16‑MO

ターボモレキュラーポンプ

VHT のガスパージスキーム、脱バインダーおよび焼結

プロセス容器、不活性ガス下での残留物脱バインダー用

プロセスによってはチャージの脱バインダーを不燃性保護ガスまたは反応ガス雰囲気下で行う必要があります。このようなプロセスには基本的に高温壁レトルト炉を奨励します。(NRまたはSRモデル参照)この炉では凝縮物堆積を、最適に回避できることが確認されています。

VHTレトルト炉で残留物の脱バインダー中に多少の排ガスが避けられない場合は、炉の装備で対応してください。

炉室内に装備された追加プロセス容器で、排気ガスが排ガスフレアに直送されます。このシステムによって、脱バインダー時の排ガスによる炉室内の汚染を極力回避できます。

排ガスの構成に応じて、排ガスラインの装備には様々なオプションがあります。

  • 排ガスの燃焼のための排ガスフレア
  • バインダーを分離するための凝縮トラップ
  • 洗浄器によるプロセス別の排ガス処理
  • 排気口のヒーティングで排ガスライン内の凝縮物堆積を回避
 VHT .../..-GRVHT .../..-MOVHT .../18-WVHT .../18-KE
最高温度1800 °C または 2200 °C1200 °C または 1600 °C1800 °C1800 °C
不活性ガス
大気/ 酸素---
水素3,4331,3
低真空、中真空 (>10-3 mbar)2
高真空 (<10-3 mbar)42
炉材の ヒーター黒鉛モリブデンタングステンMoSi2
炉材の 断熱黒鉛フェルトモリブデンタングステン/モリブデンセラミックファイバー
1最高温度は1400 ℃まで低下 3可燃性の不活性ガスと反応ガス対応安全パッケージ付きのみ
2最高温度により異なる 4最高温度 1800 ℃
機種プロセス容器内寸(単位 mm)容量
 奥行き高さ(リットル)
VHT 8/..1202101503,5
VHT 40/..25043025025,0
VHT 70/..32547532550,0
VHT 100/..42550042590,0
VHT 250/..575700575230,0
VHT 500/..725850725445,0
機種炉室内寸 (mm)容量炉の最大外寸 (mm)加熱能力 kW4
 奥行き高さ(リットル)容量奥行き高さ黒鉛モリブデンタングステンセラミックファイバー
VHT 8/..170240200851250 (800)1110020002719/3435012
VHT 40/..300450300403016002100230083/103254/6039030
VHT 70/..3755003757050170025002400105/125270/100315055
VHT 100/..45055045010075190026002500131/155290/1403ご要望次第85
VHT 250/..6007506002501753000143003100180/2102ご要望次第ご要望次第ご要望次第
VHT 500/..7509007505003503200145003300220/2602ご要望次第ご要望次第ご要望次第
1個々の切り替え装置ユニット 31200 °C/1600 °C
21800 °C/2200 °C 4接続負荷は仕様によって上昇