サーモプロセス技術

高温壁レトルト炉, 最高温度 1100 ℃

自動ガスパージおよびタッチパネル H 3700 を装備した NRA 75/06 ガスパージキットを装備したNRA 25/06

NRA ../06 機種の炉内加熱

NRA 17/06 ~ NRA 1000/11

密閉型レトルト炉には、温度に相応して直接あるいは間接的加熱方式を採用します。所定の不活性ガスあるいは反応ガス雰囲気が要求される多様な熱処理プロセスに最適です。最高 600 ℃ 迄の真空下の熱処理にもこのようなコンパクト機種を応用できます。炉室は密閉型レトルトで構成されています。ドア領域は特殊シールを保護する水冷方式を採用しています。水素のような反応ガスの使用にも相応の安全技術を採用しています。また、IDB 装備では不活性ガスでの脱バインダーあるいは熱分解が可能です。

プロセスに要求される温度領域に対応して、以下に列記する種々の機種が採用されます:

NRA ../06 機種、最高温度 650 ℃

  • レトルト内部に配備された発熱体
  • 100 ~ 600 迄の有効空間における温度均一性は最高 +/- 6 °C
  • ステンレス製レトルト (1.4571)
  • レトルト後方部に装備された循環ファンによる最適な温度均一性を確保

NRA ../09 機種、最高温度 950 ℃

  • レトルト全体を発熱体で外側から加熱、ドアにも加熱装置を追加
  • 200 ~ 900 迄の有効空間における温度均一性は最高 +/- 6 °C
  • ステンレス製レトルト (1.4841)
  • レトルト後方部に装備された循環ファンによる最適な温度均一性を確保

NR ../11 機種、最高温度 1100 ℃

  • レトルト全体を発熱体で外側から加熱、ドアにも加熱装置を追加
  • 200 ~ 1050 迄の有効空間における温度均一性は最高 +/- 8 °C
  • ステンレス製レトルト (1.4841)
 

NRA 480/04S

NRA 50/09 H2

レトルトの室温真空用ポンプ

基本装備

  • フレーム構造のコンパクトなケーシングとステンレス製のプレート
  • 制御およびガスパージを炉ケーシングに統合
  • 950 機種および 1100 機種には炉内とドアに分離された複数ゾーン制御炉のサイズによって炉室内を更に単一あるいは複数の加熱ゾーンに区分
  • 開放型水冷システムを装備した右開きドア
  • 950 機種および 1100 機種には炉内とドアに分離された複数ゾーン制御炉のサイズによって炉室内を更に単一あるいは複数の加熱ゾーンに区分
  • レトルト内部・外部の温度計測を装備したチャージ温度制御
  • 不燃性の保護ガス反応ガスでのガスパージシステム、フローメーターおよびソレノイドバルブで制御
  • 600 迄真空を可能にする真空ポンプのオプション
  • 室温真空用の真空ポンプの接続が可能
  • 操作説明書の枠内における規定どおりの使用
  • データ入力用のタッチパネル H 700 (650 機種 はP 300 ) を装備したPLC制御は、

追加装備

  • その他の不燃性ガスに対応した装備
  • 流量が変更するプロセスの自動ガスパージには MFC フローメーターを取り付け、H 3700 タッチパネル操作による PLC 制御
  • 600 迄レトルトの真空を可能にする真空ポンプの機種によっては真空度 10-5 mbar を実現
  • プロセス時間を短縮する冷却システム
  • 閉鎖循環系水冷熱交換器によるドア冷却
  • 残存酸素量の測定装置
 

NR 200/11 H2 は水素雰囲気下での熱処理用 フォークリフトによる NRA 300/06 炉への装入

レトルト用差し込み式クイックロック、電動式も追加装備で可能

高温時の開閉に平行開閉式スイングドア(追加装備)

水素雰囲気下で稼動するH2 タイプ

水素をプロセスガスとして使用する応用領域の炉には、それに求められる安全技術を追加装備して納入します。安全に関するセンサーには相応の認証を受けた実証済みの部品だけを採用しています。炉の運転は、誤作動無く確実に作動する PLC 制御システム (S7-300F/安全制御) でコントロールされます。

  • H2 の流入は相対圧 50 mbar の過圧に制御
  • 認証許可済みの安全構想
  • グラフィック表示式のタッチパネル H 1700 でデータ入力する PLC 制御
  • 水素流入用冗長バルブ
  • 全プロセスのガス圧許容値を監視
  • 不活性ガスを炉室内に安全にパージするためのバイパス
  • 熱方式アフターバーニング用排ガスフレア装置
  • 誤作動時に非常用ガスを炉に送り込むパージ容器
 

NRAシリーズの炉を使用した水蒸気によるドリルのブルーイング

不活性保護ガス雰囲気下での脱バインダーおよび熱分解のためのIDB仕様

NR および NRAシリーズのレトルト炉は、不活性性保護ガス雰囲気下の脱バインダー処理あるいは熱分解プロセスに最適です。IDBタイプの炉は、炉の監視と不活性ガスパージ機構を備えた安全構想が採用されています。排ガスは排ガスフレア装置で焼却されます。安全運転を確保するため、パージおよびフレア機能は共に監視されます。

  • 相対圧 50 mbar の過圧に制御されたプロセス進行を監視
  • グラフィック表示式のタッチパネル H 1700 でデータ入力する PLC 制御
  • プロセスガス圧の許容値を監視
  • 不活性ガスを炉室内に安全にパージするためのバイパス
  • 熱方式アフターバーニング用排ガスフレア装置
機種最高温度 機種最高温度有効空間寸法 (mm)有効容量電気
  奥行き高さ(リットル)接続*
NRA 17/..650 または 950NR 17/11110022535022517三相
NRA 25/..650 または 950NR 25/11110022550022525三相
NRA 50/..650 または 950NR 50/11110032547532550三相
NRA 75/..650 または 950NR 75/11110032570032575三相
NRA 150/..650 または 950NR 150/111100450750450150三相
NRA 200/..650 または 950NR 200/1111004501000450200三相
NRA 300/..650 または 950NR 300/111100590900590300三相
NRA 400/..650 または 950NR 400/1111005901250590400三相
NRA 500/..650 または 950NR 500/1111007201000720500三相
NRA 700/..650 または 950NR 700/1111007201350720700三相
NRA 1000/..650 または 950NR 1000/11110087013508701000三相
*接続電圧に関する注記は76ページを参照
 

SRA 300/06チャージ用バスケット付き SR 170/1000/11 レトルト交換と冷却ステーション付き

SRA 200/09

SR(A) 17 - SR(A) 1500

レトルト炉SRおよびSRA(ガス循環能付き)は不燃性または可燃性の保護ガス反応ガス雰囲気下での運転に適しています。クレーンまたは運用サイドで使用するその他の吊上装置を使って上方から装入します。このため、高重量装入物の炉室内への装入が可能になります。

炉の稼動温度に応じて、以下の機種を用意しています:

NR .../11 機種、最高温度 1100 ℃

  • レトルト外部からの循環加熱
  • DIN 17052-1に準拠した温度均一性、有効空間500 ~1100 で +/- 8 °C に達する
  • ステンレス製レトルト (1.4841)
  • 上から下に向けて複数ゾーン制御

SRA ../09 機種、最高温度 950 ℃

  • SR .../11 機種と同様、但し以下の点で相違: , 72ページを参照
    • DIN 17052-1に準拠した温度均一性、 有効空間200 ~900 で +/- 5 Cに達する、炉蓋に装備された高出力ファンによる大気循環

SRA ../06 機種、最高温度 600 ℃

  • SRA .../09 機種と同様、但し以下の点で相違: 72ページを参照
    • レトルト内部の加熱を指示
    • DIN 17052-1に準拠した温度均一性、有効空間500 ~1100 で +/- 7 C に達する
    • 単一ゾーン制御
    • ステンレス製レトルト (1.4571)

基本装備 (全機種)

  • NR および NRA 機種の基本装備と同様、但し以下の点で相違
    • 運用サイドで使用しているクレーンまたは吊上装置を使って上方から装入
    • 横開き旋回蓋
機種最高温度 赤熱レトルト内寸容量外寸 (mm)電気重量
 Ø (mm)高さ (mm)(リットル)奥行き高さ接続*(kg)
SR(A) 17/.. 25035017130017001800三相600
SR(A) 25/.. 25050025130019001800三相800
SR(A) 50/.. 40045050140020001800三相1300
SR(A) 100/..600,400800100140020002100三相1500
SR(A) 200/..950600700200160022002200三相2100
SR(A) 300/..または6001000300160022002500三相2400
SR(A) 500/..11008001000500180024002700三相2800
SR(A) 600/.. 8001200600180024002900三相3000
SR(A) 800/.. 10001000800200026002800三相3100
SR(A) 1000/.. 100013001000200026003100三相3300
SR(A) 1500/.. 120013001500220028003300三相3500
*接続電圧に関する注記は、76 ページ参照
 

低温壁レトルト炉, 最高温度 2400 ℃

CFCプロセスケースと水素を使用した運転用の拡充パッケージ付きVHT 500/22-GR H2 ファイバー断熱と二珪化モリブデン発熱体付きのVHT 8/18-KE

VHT 8/16 MO による水素雰囲気下での胴棒材の熱処理

VHT 8/18-GR - VHT 500/18-KE

コンパクトタイプの VHT シリーズは、黒鉛、モリブデン、タングステンまたは MoSi2 を加熱装置として採用した電気加熱式チャンバー炉です。多様な加熱構想の他にも、アクセサリーも包括的に取り揃えているため、厳しい技術が要求されるプロセスにも適用できます。

真空密封型プロセス容器は、不活性/反応ガス雰囲気下での熱処理プロセスを可能にします。炉の仕様によっては最高 10-5 mbar の真空度を確保します。基本型炉は不燃性の保護ガス反応ガス雰囲気下あるいは真空下での運転に適しています。 H2 タイプは水素またはその他の可燃性ガスを使用する運転に適しています。このタイプの中核をなすのが認証許可済みの安全装備です。いかなる時も安全運転を確保すると同時に、エラー発生時には相応の非常プログラムが作動します。

加熱仕様の選択肢

基本的に、異なる適用温度に応じて以下に列記する機種を提供しています:

VHT ../GR、黒鉛を採用した断熱および加熱

  • 不活性/反応ガス雰囲気または真空下のプロセス
  • 最高温度 : 1800 または 2200 (2400 °C は追加装備)
  • 使用するポンプのタイプに応じて、10-4 mbar 迄の真空度
  • 黒鉛断熱

モリブデンまたはタングステン製ヒーターを装備したVHT ../MO または ../W

  • 不活性/反応ガス雰囲気または高真空下の高純度プロセスに適用
  • Tmax は 1200 、1600 または 1800 (表を参照)
  • 使用するポンプのタイプに応じて、5 x 10-5 mbar 迄の真空度
  • モリブデンならびタングステン放射プレートによる断熱

VHT ../KE、ファイバー断熱および二珪化モリブデン発熱体による加熱

  • 不活性/反応ガス雰囲気、大気または真空下のプロセスに適用
  • 最高温度 1800
  • 使用するポンプのタイプに応じて、10-2 mbar (最高 1300 ) 迄の真空度
  • 高純度の酸化アルミニウムファイバーによる断熱
 

全機種の標準装備

黒鉛製の挿入式加熱装置

モリブデン製ヒーター

タングステン製ヒーター

セラミックファイバーによる遮断

基本装備

  • 標準型炉室容量は 8 - 500 リットル
  • 耐熱性 Oリングでシールされた全面水冷式のステンレス製プロセス容器
  • 鋼鉄製プロファイルから成る堅牢なフレームは、ステンレス製カウリングが取り外しできるためメンテナンスが容易
  • VHT 8 のケーシングには炉の走行を容易にするローラーを装備
  • 順流・逆流を手動で開閉できるコックを備えた水冷配分器、自動流量監視、開放型冷却システム
  • 流量や温度の表示および超過温度の安全装置を備えた調整可能な水冷循環システム
  • スイッチボードおよび制御器をケーシングに統合
  • プログラムを入力し、ビジュアル化する 7“ インチ タッチパネルによる PLC 制御 H 700。20 セグメント構成のプログラムを10 種類保存可能
  • 手動設定可能な過昇温計 (熱保護等級 2、EN 60519-2 に準拠)
  • プロセス機能および真空機能の手動操作
  • プロセスガスの (N2 または Ar) の流量を調整可能な手動式ガスパージ
  • 手動バルブを装備したバイパスで不活性ガスを炉室内にスピーディに充填・パージ
  • オーバーフローバルブ (相対圧 20 mbar) を装備した手動式ガスアウトレット
  • ボールコックを装備した一段型ロータリースライドポンプによる予備排気、および最高 5 mbar の低真空熱処理
  • マノメーターで圧力監視を可視化
  • 操作説明書の枠内における規定どおりの使用

追加装備

  • 最高温度 2400
  • ケーシング区分して小型のドア開口部から装入可能なオプション (VHT 08)
  • セカンドプロセス (N2 または Ar) 用に流量調整可能な手動型ガスパージおよびバイパス
  • モリウデン、タングステンまたはCFC製のプロセス容器、特に解離プロセスに奨励。ガス注入排出が直接可能なケーシングは炉室に設置され、温度均一性が向上します。解離プロセスごとにガスラインを変更することで、バインダーを含むガスが炉から排出され、焼結プロセスでは洗浄されたプロセスガス雰囲気が得られます。
  • 装入物に取り付けた表示付きの熱電対
  • 最高温度 2200 用の機種はパイロメーター、Sタイプの熱電対および自動取り出し装置を備え、低温領域における卓越した制御効果を発揮 (VHT 40 以降)
  • ボールコックを装備した二段型ロータリースライドポンプによる予備排気、および最高10-2 mbar の真空熱処理
  • シャットオフスライドを備えたターボモレキュラーポンプによる予備排気、および最高 10-5 mbar の真空熱処理。電気圧力センサーおよびプライマリーポンプを含む (VHT .../MOのみ)
  • その他の真空ポンプについてはお問い合わせください。
  • 閉鎖循環式水冷熱交換器
  • グラフィックタッチパネル H 3700 を備えたオート装備
    • 12インチのグラフィックタッチパネル H 3700
    • 温度、加熱レート、ガスパージ、真空等の全プロセスデータをタッチパネルで入力
    • プロセス制御画面上でプロセスに関与する全データを可視化
    • 流量調整可能なプロセスガス(N2、アルゴンまたはフォーミングガス)用の自動ガスパージ
    • プロセスガスを容器にパージ・充填するためのプログラム制御式バイパス
    • 炉の安全運転に向けて、漏洩チェックを含め、予備・後続プログラムの自動化
    • ベローズバルブおよびオーバーフロバルブ (20 mbar) を装備した自動ガス排気
    • 絶対圧および相対圧用の圧力センサー
  • 流量変更をMFCで流量制御する他、セカンドプロセスガスで混合ガスを発生させる装置 (オート装備を採用した場合のみ)
  • 分圧運転: 負圧制御下での不活性ガス流入 (オート装備を採用した場合のみ)
  • NCC による PC 制御によるドキュメンテーション、および運用サイドの PC ネットワークへの結合
 

VHT 40/16MO H2 電動リフトドアとグローブボックスに接続されたフロントフレームつきVHT 40/22 GR

最高 20 mbar の低真空下熱処理に用いられる一段型ロータリースライドポンプ

最高 10-2 mbar の真空熱処理に使用される二段型ロータリースライドポンプ

プライマリーポンプ付きのターボモレキュラーポンプは最高 10-5 mbar 真空下熱処理に使用

水素やその他の可燃性ガスを使用した運転用の H2 タイプ

H2 仕様は水素およびその他の可燃性ガス下で炉運転が可能。必要とされる安全技術が炉に追加装備されています。安全に関するセンサーには相応の認証を受けた実証済みの部品だけを採用しています。エラーフリーの制御装置 (S7-300F/安全制御) で炉の運転がコントロールされます。

  • 認証許可済みの安全構想
  • オート装備 (上記の追加装備を参照)
  • 水素流入用冗長バルブ
  • 全プロセスのガス圧許容値を監視
  • 不活性ガスを炉室内に安全にパージするためのバイパス
  • 自動的に開放するソレノイドバルブを備えた圧力監視付き非常パージ容器
  • H2 アフターバーニング用の排ガスフレア (電気またはガス加熱式)
  • 運転雰囲気: 室温以上で過圧 (相対圧 50 mbar) に制御されたプロセス容器で H2 を流入

追加装備

  • 750 以上の炉温で負圧 (分圧) に制御されたプロセス容器で H2 を流入
  • プロセス容器内に収納されたレトルトで水素雰囲気下の脱バインダー処理
 

水素対応の拡充パッケージとプロセス容器つき VHT 8/16 MO
プロセス容器、不活性ガス下での残留物脱バインダー用

プロセスによってはチャージの脱バインダーを不燃性保護ガスまたは反応ガス雰囲気下で行う必要があります。このようなプロセスには基本的に高温壁レトルト炉を奨励します。(NRまたはSRモデル参照)この炉では凝縮物堆積を、最適に回避できることが確認されています。

VHT炉で残留物の脱バインダー中に多少の排ガスが避けられない場合は、炉の装備で対応してください。

炉室内に装備された追加プロセス容器で、排気ガスが排ガスフレアに直送されます。このシステムによって、脱バインダー時の排ガスによる炉室内の汚染を極力回避できます。

排ガスの構成に応じて、排ガスラインの装備には様々なオプションがあります。

  • 排ガスの燃焼のための排ガスフレア
  • バインダーを分離するための凝縮トラップ
  • 洗浄器によるプロセス別の排ガス処理
  • 排気口のヒーティングで排ガスライン内の凝縮物堆積を回避
 VHT ...-../GRVHT ...-../MOVHT ...-18/WVHT ...-18/KE
最高温度1800 °C または 2200 °C1200 °C または 1600 °C1800 °C1800 °C
不活性ガス
大気/ 酸素最高 350 ℃--
水素3331,3
低真空、中真空 (>10-3 mbar)2
高真空 (<10-3 mbar)-2
炉材の ヒーター黒鉛モリブデンタングステンMoSi2
炉材の 断熱黒鉛フェルトモリブデンタングステン/モリブデンセラミックファイバー
1最高温度 1400 ℃ 3可燃性の不活性ガスと反応ガス対応安全パッケージ付きのみ
2Tmax により異なる
機種プロセス容器内寸(単位 mm)容量
 奥行き高さ(リットル)
VHT 8/..1202101503,5
VHT 40/..25043025025,0
VHT 70/..32547532550,0
VHT 100/..42550042590,0
VHT 250/..575700575230,0
VHT 500/..725850725445,0
機種炉室内寸 (mm)容量炉の最大外寸 (mm)加熱能力 kW4
 奥行き高さ(リットル)容量奥行き高さ黒鉛モリブデンタングステンセラミックファイバー
VHT 8/..170240200851250 (800)1110020002719/3435012
VHT 40/..300450300403016002100230083/103254/100313430
VHT 70/..3755003757050170025002400105/125270/130316055
VHT 100/..45055045010075190026002500131/155290/165321085
VHT 250/..600750600250175230028002800180/2102125/2203ご要望次第ご要望次第
VHT 500/..750900750500350250032003000220/2602ご要望次第ご要望次第ご要望次第
1スイッチボードユニットを取り外した状態 31200 °C/1600 °C
21800 °C/2200 °C 4接続負荷は仕様によって上昇
 

シャフト型低温壁レトルト炉、最高温度 2400 ℃ または 3000 ℃

タングステンヒーターを装備した SVHT 9/24-W

黒鉛加熱モジュール

タングステンヒーターを装備した円筒状レトルト

水冷制御装置

SVHT 2/24-W ~ SVHT 9/30-GR

SVHT シリーズの炉は VHT機種 (14 ページ以降) と比較して、真空度や最高温度の性能が更に優れています。タングステンヒーターを装備した SVHT ..-W シャフト炉は、高真空度でも最高温度 2400 ℃のプロセスが可能です。黒鉛ヒーターを装備したシャフト炉 SVHT ..-GR 機種は希ガス雰囲気では最高温度 3000 ℃のプロセスも可能です。

  • 標準型炉室容量は 2 または 9 リットル
  • 上から装入するシャフト炉
  • ステンレスプレートを組み込んだフレーム構造
  • 水冷式二重壁構造のステンレススチール容器
  • 手動操作によるプロセスガス機能および真空機能
  • 手動操作による不燃性プロセスガスパージ装置
  • 人間工学的装入高さを実現するステップを炉の前に設置
  • ガス圧ダンパーを装備した容器カバー
  • 炉のハウジングに統合された作動・制御装置
  • 操作説明書の枠内における規定どおりの使用
  • 標準製品のその他の性能は14 ページ以降の VHT 標準モデルの内容を参照

ヒーターの選択肢

SVHT ..-GR

  • 適用プロセス:
    • 不活性/活性ガス雰囲気または真空下で、最高温度は 2200
    • 希ガス (アルゴン、ヘリウム) 雰囲気で、最高温度は 3000
  • 使用するポンプのタイプに応じて、 10-3 mbar 迄の真空度
  • 加熱:円筒状に配備された黒鉛発熱体
  • 断熱:黒鉛断熱
  • 光学式パイロメーターによる温度計測

SVHT ..-W

  • 不活性/活性ガス雰囲気または真空下のプロセスで、最高温度 2400 に対応
  • 使用するポンプのタイプに応じて、 10-5 mbar 迄の真空度
  • 加熱: 円筒状に配備されたタングステン加熱モジュール
  • 断熱:タングステンおよびモリブデン製のスチールプレート
  • 光学式パイロメーターによる温度計測
  • プロセスガスの自動制御や可燃性ガスを使用するプロセス、安全システム等に対する追加装備は14ページ以降の VHT 機種を参照
機種最高温度有効空間寸法 (mm)有効容量外形寸法 mm加熱能力電気
 Ø x 高さ (リットル)奥行き高さkW1接続*
SVHT 2/24-W2400150 x 1502,514002500210055三相
SVHT 9/24-W2400230 x 2309,515002750210095三相
         
SVHT 2/30-GR3000150 x 1502,514002500210055三相
SVHT 9/30-GR3000230 x 2309,515002750210095三相
1接続負荷は仕様によって上昇 *接続電圧に関する注記は76ページを参照
 

昇降底型レトルト炉, 最高温度2400 ℃ 製造用

LBVHT 600/24-GR LBVHT 250/20-W タングステン加熱装置

LBVHT 黒鉛の加熱装置

LBVHT 100/16 - LBVHT 600/24

LBVHTシリーズの昇降底型レトルト炉は、保護ガスや反応ガスまたは真空雰囲気が必要なプロセスに最適です。この機種は基本的にはVHTシリーズの構造です。電気油圧駆動の昇降底構造やサイズで、特に製造でのワーク装入が容易になります。サイズと仕様の炉を取り揃えています。またVHT型と同様、様々な加熱方式に対応しています。

  • 100~600リッターまでの標準サイズの昇
  • 降底型レトルト炉 電気油圧駆動のテーブル装備で装入簡易
  • 重量搬入物に対応
  • 加熱コンセプトの種類
    • 最高温度2400 の黒鉛ヒーター装備
    • 最高温度1600 のモリブデンヒーター
    • 最高温度2000 タングステンヒーター
  • ステンレス鋼プレートとアルミニウムフレーム構造
  • ガスパージ付き基本装備、不燃性の保護ガス反応ガス向け
  • 自動ガスパージシステム、多種のプロセスガス使用の場合は追加装備
  • 水素など可燃性の反応ガス下の運転向けのガスパージシステム(追加装備として安全キットも含む)
  • スイッチ、制御装置およびガスパージは炉ケーシングに統合
  • 操作説明書の枠内における規定どおりの使用
  • 標準製品のその他の性能および追加装備に関して14ページ以降のVHT炉の記述をご参照ください。
機種最高温度機種最高温度機種最高温度炉室内寸 (mm)容量電気
 °C °C °CØ高さ(リットル)接続*
LBVHT 100/16-MO1600LBVHT 100/20-W2000LBVHT 100/24-GR2400450700100三相
LBVHT 250/16-MO1600LBVHT 250/20-W2000LBVHT 250/24-GR2400600900250三相
LBVHT 600/16-MO1600LBVHT 600/20-W2000LBVHT 600/24-GR24008001200600三相
*接続電圧に関する注記は76ページを参照
 

触媒方式脱バインダー用のチャンバー型レトルト炉 触媒又はサーモ方式脱バインダー用のコンビ炉としても

NRA 40/02 CDB、アシッドポンプ用キャビネット付き

硝酸用酸ポンプ

内部ヒーターとプロセス容器付きのレトルト

NRA 40/02 CDB および NRA 150/02 CDB

チャンバーレトルト炉 NRA 40/02 CDB および NRA 150/02 CDB は、BASF CATAMOLD® 法による粉末射出成形されたセラミックおよび金属構成部品の触媒方式脱バインダー処理専用に開発されました。内側加熱式のガス密閉型レトルトを備えた熱風循環炉です。触媒方式脱バインダーではポリアセタール (POM) を含むバインダーが硝酸に作用されて炉室内で化学的に分解され、窒素キャリアガスによって炉外へ送られて排ガスフレアで焼却されます。オペレーターや周囲を保護するため、どちらの機種も包括的な安全装備を備えています。 コンビ炉CTDBとしての仕様では、製品を触媒およびサーム脱バインダー、また必要と製品の仕様特性に応じて初期焼結ができます。初期焼結された部品は、残留バインダーで汚染されずに、容易に焼結炉に移動できます。

  • 耐酸ステンレス製 (1.4571) のプロセス容器には大型ドアを装備
  • クロム鋼チューブヒーターでレトルト内部を四面加熱するため、均一な温度分布を実現
  • 水平熱風循環でプロセスガスを均一に分布
  • 酸ポンプおよび運用サイドの酸容器を炉台に統合
  • ガス加熱式の排ガスフレアに火炎監視を装備
  • LPC制御の冗長的安全装置を備えた包括的安全装備は、硝酸を使用する運転の安全性を確保します。
  • グラフィック表示機能をもつ大型タッチパネル H 3700 でプロセスのデータ入力および可視化
  • 操作説明書の枠内における規定どおりの使用

NRA 40/02 CDB 機種

  • 最高温度 200
  • 数値を固定設定したガスパージシステム

追加機種NRA 150/02 CDB

  • マスフローメーターを装備した窒素の自動ガスパージシステム
  • 酸の消費量は調整可能で、それに対応したパージガス容量

NRA .. CTDB仕様

  • サーモバインダーおよび不活性バインダーは12ページを参照
  • 大気循環付き600 および900 向けモデルも用意

追加装備

  • 硝酸容器の計量機は、酸の消費を監視し、酸容器の充填レベルを可視化する PLC 制御に接続 (NRA 150/02 CDB)
  • プロセスの可視化・制御・装入ドキュメンテーションを行うソフトウエアセット NCC
  • マスフローメーターを装備した窒素の自動ガスパージシステム (NRA 40/02 CDB)
  • 酸の消費量は調整可能で、それに対応したパージガス容量 (NRA 40/02 CDB)
  • 炉の装入を容易にするリフトトラック
  • アシッドポンプ用キャビネット
  • 炉洗浄用の緊急用空気タンク故障の場合
機種最高温度 炉室内寸 (mm)容量
(リット外寸 (mm)加熱能力電気重量酸の消費量窒素ガス
 奥行き高さル)奥行き高さkW2接続*(kg)(HNO3)(N2)
NRA 40/02 CDB200300450300401100125024505三相1800最高 70 ml/h1000 l/h
NRA 150/02 CDB20045070045015016501960285023三相11650 最高 180 ml/h最高 4000 l/h
1加熱は二相間でのみ可能 *接続電圧については76頁参照
2接続負荷は仕様によって上昇
 

クリーンルームソルーション

KTR 8000、空気循環フィルター付きクリーンルーム内生産炉 高温壁レトルト炉NRA 1700/06、グレイルーム設置用装入台付き、クリーンルーム装入用扉付き

クリーンルーム仕様のNAC 120/65、循環チェンバー炉

クリーンルーム仕様のNAC 250/65、クリーンルーム内扉付きクラス100

クリーンルーム/グレイルームソルーション、クリーンルーム内の装入および制御

クリーンルームの設置仕様によって、選択する炉の仕様に様々な条件が要求されます。炉全体がクリーンルームに設置される場合は、クリーンルーム環境の汚染防止が重要です。特に粒子による汚染を最小限に削減してください。

典型的な適用の特性が必要な炉の技術選択に決定的となります。多くの場合、低温でも熱が均一に分布するために 熱風循環炉が必要になります。またナーバサームは高温向けに放射加熱炉を各種取り揃えています。

クリーンルーム内の炉設置

炉全体をクリーンルーム内に設置する場合、炉室、炉ハウジングおよび制御部が汚染から守られていることが重要です。またその外部表面は容易に洗浄できることが重要です。炉室は内部が断熱層になっています。必要な場合は、空気循環フィルターや炉内の空気循環などの追加装備も可能です。スイッチや炉制御装置をクリーンルームの外に設置することを奨励します。

グレイルーム内の炉設置、クリーンルームからの炉への装入

最適なクリーンルームのグレード(一級品)はグレールームでの炉の設置によってロットと一緒にクリーンルームに装入することで達成出来るのです。またクリーンルーム内のフロントおよび炉室の洗浄が容易です。この仕様によって最高のクリーンルーム等級が達成できます。

グレイルームとクリーンルームの間のシャッター炉

グレイルームとクリーンルーム間の輸送は通常、容易な仕様に最適化されています。グレイルームとクリーンルームにそれぞれ扉が装備され、クリーンルームの炉側面は粒子堆積の大部分を削減できる構造です。

クリーンルーム環境下での熱処理のためのソルーションをお探しの際には当社にご相談ください。当社は目的に合った炉モデルをご提供します。