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NRA 480/04S

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NRA 50/09 H2

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レトルトの室温真空用ポンプ

基本装備

  • フレーム構造のコンパクトなケーシングとステンレス製のプレート
  • 制御およびガスパージを炉ケーシングに統合
  • 950 機種および 1100 機種には炉内とドアに分離された複数ゾーン制御炉のサイズによって炉室内を更に単一あるいは複数の加熱ゾーンに区分
  • 開放型水冷システムを装備した右開きドア
  • 950 機種および 1100 機種には炉内とドアに分離された複数ゾーン制御炉のサイズによって炉室内を更に単一あるいは複数の加熱ゾーンに区分
  • レトルト内部・外部の温度計測を装備したチャージ温度制御
  • 不燃性の保護ガス反応ガスでのガスパージシステム、フローメーターおよびソレノイドバルブで制御
  • 600 迄真空を可能にする真空ポンプのオプション
  • 室温真空用の真空ポンプの接続が可能
  • 操作説明書の枠内における規定どおりの使用
  • データ入力用のタッチパネル H 700 (650 機種 はP 300 ) を装備したPLC制御は、

追加装備

  • その他の不燃性ガスに対応した装備
  • 流量が変更するプロセスの自動ガスパージには MFC フローメーターを取り付け、H 3700 タッチパネル操作による PLC 制御
  • 600 迄レトルトの真空を可能にする真空ポンプの機種によっては真空度 10-5 mbar を実現
  • プロセス時間を短縮する冷却システム
  • 閉鎖循環系水冷熱交換器によるドア冷却
  • 残存酸素量の測定装置

thermprozesstechnik_japanisch 製品カタログ サーモプロセス技術
(URL: http://www.nabertherm.com/produkte/thermprozesstechnik/thermprozesstechnik_japanisch.pdf)