全機種の標準装備
  
  
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黒鉛製の挿入式加熱装置

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モリブデン製ヒーター

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タングステン製ヒーター

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セラミックファイバーによる遮断

基本装備

  • 標準型炉室容量は 8 - 500 リットル
  • 耐熱性 Oリングでシールされた全面水冷式のステンレス製プロセス容器
  • 鋼鉄製プロファイルから成る堅牢なフレームは、ステンレス製カウリングが取り外しできるためメンテナンスが容易
  • VHT 8 のケーシングには炉の走行を容易にするローラーを装備
  • 順流・逆流を手動で開閉できるコックを備えた水冷配分器、自動流量監視、開放型冷却システム
  • 流量や温度の表示および超過温度の安全装置を備えた調整可能な水冷循環システム
  • スイッチボードおよび制御器をケーシングに統合
  • プログラムを入力し、ビジュアル化する 7“ インチ タッチパネルによる PLC 制御 H 700。20 セグメント構成のプログラムを10 種類保存可能
  • 手動設定可能な過昇温計 (熱保護等級 2、EN 60519-2 に準拠)
  • プロセス機能および真空機能の手動操作
  • プロセスガスの (N2 または Ar) の流量を調整可能な手動式ガスパージ
  • 手動バルブを装備したバイパスで不活性ガスを炉室内にスピーディに充填・パージ
  • オーバーフローバルブ (相対圧 20 mbar) を装備した手動式ガスアウトレット
  • ボールコックを装備した一段型ロータリースライドポンプによる予備排気、および最高 5 mbar の低真空熱処理
  • マノメーターで圧力監視を可視化
  • 操作説明書の枠内における規定どおりの使用

追加装備

  • 最高温度 2400
  • ケーシング区分して小型のドア開口部から装入可能なオプション (VHT 08)
  • セカンドプロセス (N2 または Ar) 用に流量調整可能な手動型ガスパージおよびバイパス
  • モリウデン、タングステンまたはCFC製のプロセス容器、特に解離プロセスに奨励。ガス注入排出が直接可能なケーシングは炉室に設置され、温度均一性が向上します。解離プロセスごとにガスラインを変更することで、バインダーを含むガスが炉から排出され、焼結プロセスでは洗浄されたプロセスガス雰囲気が得られます。
  • 装入物に取り付けた表示付きの熱電対
  • 最高温度 2200 用の機種はパイロメーター、Sタイプの熱電対および自動取り出し装置を備え、低温領域における卓越した制御効果を発揮 (VHT 40 以降)
  • ボールコックを装備した二段型ロータリースライドポンプによる予備排気、および最高10-2 mbar の真空熱処理
  • シャットオフスライドを備えたターボモレキュラーポンプによる予備排気、および最高 10-5 mbar の真空熱処理。電気圧力センサーおよびプライマリーポンプを含む (VHT .../MOのみ)
  • その他の真空ポンプについてはお問い合わせください。
  • 閉鎖循環式水冷熱交換器
  • グラフィックタッチパネル H 3700 を備えたオート装備
    • 12インチのグラフィックタッチパネル H 3700
    • 温度、加熱レート、ガスパージ、真空等の全プロセスデータをタッチパネルで入力
    • プロセス制御画面上でプロセスに関与する全データを可視化
    • 流量調整可能なプロセスガス(N2、アルゴンまたはフォーミングガス)用の自動ガスパージ
    • プロセスガスを容器にパージ・充填するためのプログラム制御式バイパス
    • 炉の安全運転に向けて、漏洩チェックを含め、予備・後続プログラムの自動化
    • ベローズバルブおよびオーバーフロバルブ (20 mbar) を装備した自動ガス排気
    • 絶対圧および相対圧用の圧力センサー
  • 流量変更をMFCで流量制御する他、セカンドプロセスガスで混合ガスを発生させる装置 (オート装備を採用した場合のみ)
  • 分圧運転: 負圧制御下での不活性ガス流入 (オート装備を採用した場合のみ)
  • NCC による PC 制御によるドキュメンテーション、および運用サイドの PC ネットワークへの結合

thermprozesstechnik_japanisch 製品カタログ サーモプロセス技術
(URL: http://www.nabertherm.com/produkte/thermprozesstechnik/thermprozesstechnik_japanisch.pdf)