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低温壁レトルト炉、最高温度 2400 °C

低温壁レトルト炉、最高温度 2400 °C

レトルト炉 VHT 500/22-GR H2 、CFC プロセス容器、および、水素を使用する運転用の拡充パッケージ搭載

黒鉛発熱体

モリブデンまたはタングステン発熱体

ファイバー断熱方式の二珪化モリブデン加熱装置

VHT シリーズのコンパクトなレトルト炉は、黒鉛, モリブデン、タングステンまたは MoSi2 加熱のある電気加熱式チャンバー炉として設計されています。さまざまな加熱コンセプトと幅広いアクセサリーによって、これらのレトルト炉は技術的に厳しい要件のプロセスにも対応します。

密閉型レトルトは、炉仕様に従って、保護/反応ガス雰囲気下、または、真空での最大 10-5 mbar までの熱処理プロセスに対応します。基本炉は、不燃性保護ガスまたは反応ガスを使用する運転、あるいは、真空下での運転に適しています。H2を使用すれば、水素またはその他の可燃性ガス下で運転できます。このタイプの中核である認証されたセーフティパッケージが、常に安全運転を確保して、エラー発生時には緊急時用のプログラムが作動します。

その他の加熱仕様

通常、異なるプロセス要件では次のモデルを使用できます:

黒鉛断熱および加熱のある VHT ../..-GR

  • 保護/反応ガス下または真空中でのプロセスで使用できます
  • 最高温度 1800  °C、2200 °C または 2400  °C(VHT 40/..- VHT 100/..)
  • 使用するポンプのタイプに応じて 10-4 mbar までの真空
  • 黒鉛フェルト断熱

モリブデンまたはタングステン加熱のある VHT ../..-MO または VHT ../..-W

  • 保護/反応ガス下または高真空中でのプロセスで使用できます
  • 最高温度 1200  °C、1600  °C または 1800  °C(表を参照してください)
  • 使用するポンプのタイプに応じて 10-5 mbar までの真空
  • モリブデンまたはタングステン放射プレートによる断熱

VHT ../..-KE、ファイバー断熱および二珪化モリブデン発熱体による加熱

  • 保護/反応ガス下、空気中、または、低真空中でのプロセスで使用できます
  • 最高温度 1800  °C
  • 使用するポンプタイプによっては最大真空10-2 mbar(最高温度 1300  °C)
  • 純度の高い酸化アルミニウムファイバー製の断熱
  • TRGS 905、クラス 1 または 2 に従って発がん性があると分類されていない絶縁材のみを使用します
 

追加装備が実装された低温壁レトルト炉の図 1 レトルト 2 加熱装置 3 断熱 4 ガス管理システム 5 真空ポンプ 6 冷却水配分 7 コントローラ 8 統合型スイッチシステム 9 加熱トランス 10 プロセス容器内の装入フレーム 自動化パッケージのあるレトルト炉 VHT 8/16‑MO

自動化パッケージのあるレトルト炉 VHT 100/16‑MO

基本バージョン

  • 標準型炉室容量は 8 - 500 リットル
  • 水冷却式ステンレス鋼製レトルト
  • 安定した鋼プロファイル製のフレーム、ステンレス鋼製外装パネルは簡単に取り外すことができるため、保守作業が容易です
  • VHT 8モデルのケーシングにはローラーが装備されているので、炉を容易に移動できます
  • 冷却水マニホールドには、手動で開閉できるコック、自動流量監視、開式冷却水システムが実装されています
  • 流量および温度表示と過熱保護のある設定可能な冷却水回路
  • スイッチシステムとコントローラはケーシング内に統合されています
  • コントローラ P470 が搭載されたプロセス制御装置
  • EN 60519-2 準拠の熱保護等級 2 向けの調節可能な停止温度のある過昇温計
  • プロセスガスおよび真空機能の手動操作
  • プロセスガス(N2、アルゴンまたは不燃性フォーミングガス)用の流量調節可能な手動ガスパージ
  • 炉室の高速充填およびパージ用の手動弁のあるバイパス
  • 過圧での炉運転用のオーバーフローバルブ(相対圧 20 mbar)のあるガス排出口
  • ボールコックのある一段階ロータリーベーンポンプで予備排気、および5 mbar までの低真空中での熱処理
  • マノメーターで圧力監視を可視化
  • 運転説明書に従った正しい使用
 

モーター駆動式リフトドアおよびグローブボックス接続用のフロントフレームのあるレトルト炉 VHT 40/22-GR

レトルト炉 VHT 8/16-MO 内での水素下での銅製ロッドの熱処理

低温域では、自動引き出し装置のある熱電対タイプ S が優れた制御を提供します

ターボモレキュラーポンプ

追加装備 ケーシング/ヒーター

  • ケーシングを区分して、小さい扉開口部から装入できるオプション(VHT 8)
  • リフトドア
  • 個別の加熱コンセプト

追加装備 ガス管理システム

  • セカンドプロセスガス(N2、アルゴンまたは不燃性フォーミングガス)用のバイパスのある流量調節可能な手動ガスパージ
  • 交流体積流量用、および、セカンドプロセスガスで混合ガスを発生させる体積流量調整器(自動化パッケージがある場合のみ)
  • モリブデン、タングステン、黒鉛 または CFC 製プロセス容器は、脱バインダープロセス用に特に推奨します。ガスを直接送入および排出できる送入口と排出口のあるボックスが炉室に設置されているので、温度均一性が向上します。脱バインダー中に、バインダーを含む排ガスがプロセス容器から直接排出されます。脱バインダー後のガスパージ経路を交換することによって、焼結プロセス中における汚染のないプロセスガス雰囲気とします。

追加装備 真空

  • 二段型ロータリーベーンポンプによる予備排気、および中真空熱処理(10-2 mbar まで)、電気式圧力変換器を含みます
  • シャットオフスライドのあるターボモレキュラーポンプによる予備排気、および、高真空中(10-5 mbar まで)での熱処理、圧力変換器とブースターポンプを含みます
  • ご要望があれば、その他の真空ポンプをご用意します
  • 分圧運転: 制御された負圧の場合の保護ガス供給(自動化パッケージがある場合のみ)

追加装備 冷却

  • 閉式冷却水回路のある熱交換器
  • 直接冷却

追加装備 制御と文書化

  • ディスプレイのあるチャージ熱電対
  • 高温域では、2200  °C 用のモデルの温度計測は高温計で行います。低温域では、自動引き出し装置のある熱電対タイプ C が優れた制御を提供します(VHT 40/..-GR 以降)。
  • プロセス制御装置 H3700 のある自動化パッケージ
    • 12“グラフィックタッチパネル
    • 温度、加熱速度、ガスパージ、真空などのすべてのプロセスデータをタッチパネルで入力
    • プロセスに関連するデータをプロセスモデルで可視化
    • プロセスガス (N2、アルゴン、または、 不燃性フォーミングガス)用の流量調節可能な自動ガスパージ
    • プロセスガスをプログラムで制御する容器のパージと充填用のバイパス
    • 漏れテストを含む自動予備プログラムと後続プログラムが安全な炉運転を確保します
    • 過圧(相対圧 20 mbar)での炉運転用のベローズバルブとオーバフローバルブのある自動ガス排出
    • 絶対圧および相対圧用の圧力変換器
  • 監視、文書化、制御用の VCD ソフトウェアまたは Nabertherm コントロールセンター NCC でのプロセス制御および文書化
 

5 mbar までの低真空中での熱処理用一段階ロータリーベーンポンプ 10-2 mbar までの真空中での熱処理用の二段階ロータリーベーンポンプ

10-5 mbarターボモレキュラーポンプ

チャージホルダーのある黒鉛プロセス容器

6 つのチャージサポートのあるモリブデンプロセス容器

不活性残留脱バインダー用のプロセス容器

特定のプロセスでは、不燃性保護ガスまたは反応ガス下でのチャージの脱バインダーが必要です。これらのプロセス用には高温壁レトルト炉(NR..  または SR.. モデルを参照してください)を推奨します。これらのレトルト炉では、結露の堆積を最大限に防止します。

VHT 炉内でもプロセス中に少量の残留バインダーの漏れを防ぐことができない場合は、それに対応するようにレトルト炉を設計しなければなりません。

炉室には、プロセス容器が装備されています。このプロセス容器には、 排ガスフレア装置への直接排出口があり、排ガスを直接排出します。このシステムによって、脱バインダーの際に発生する排ガスによる炉室の汚染を大幅に低減します。

排ガスの成分に従って、排ガスラインにその他のオプションを実装できます:

  • 排ガス焼却用の排ガスフレア装置
  • バインダーの分離用の結露トラップ
  • プロセスによっては浄化装置で排ガスを後処理
  • 加熱排ガス排出で排ガスライン内の結露の堆積を防止
 VHT ../..-GRVHT ../..-MOVHT ../18-WVHT ../18-KE
最高温度1800 °C、2200 °C または 2400 °C1200 °C または 1600 °C1800 °C1800 °C
不活性ガス
空気/酸素---
水素3,4331.3
低真空、中真空(>10-3 mbar)2
高真空(<10-3 mbar)42
炉材の ヒーター黒鉛モリブデンタングステンMoSi2
炉材の 断熱黒鉛フェルトモリブデンタングステン/
モリブデンセラミックファイバー
1最高温度は1400 ℃まで低下 3可燃性の不活性ガスと反応ガス対応安全パッケージ付きのみ
2温度により異なる 4最高温度 1800 °C
機種プロセス容器内寸(単位 mm)容量
 奥行き高さ(リットル)
VHT 2/..801251501.5
VHT 8/..1202101503.5
VHT 25/..20035020014.0
VHT 40/..25043025025.0
VHT 70/..32547532550.0
VHT 100/..42550042590.0
VHT 250/..575700575230.0
VHT 500/..725850725445.0
機種炉内寸法 mm容量炉の最大外形寸法6 mm加熱能力 (kW)4
 
幅
奥行き
高さ(リット
ル)容量
kg
幅
奥行き
高さ
黒鉛
モリブデン
タングステンセラミック
ファイバー
VHT 2/..110125150221250 (800)11000200015/15/-2---
VHT 8/..170240200851250 (800)111002700527/27/-219/3435012
VHT 25/..250400250252015002500220070/90/-245/6538525
VHT 40/..3004503004030160026005230083/103/125254/90310030
VHT 70/..375500375705018005330052400105/125/150270/110313055
VHT 100/..450550450100751900350052500131/155/175290/1403ご要望次第85
VHT 250/..6007506002501753000143003100180/210/-2ご要望次第ご要望次第ご要望次第
VHT 500/..7509007505003503200145003300220/260/-2ご要望次第ご要望次第ご要望次第
1個々の切り替え装置ユニット 4接続負荷は仕様によって上昇
21800 °C/2200 °C/2400 °C 5加熱方式により寸法は小さくなる
31200 °C/1600 °C6外寸は追加装備を含む型によって異なります。サイズに関してはお問い合わせください。
 

ファイバー断熱、および、水素を使用する運転用の拡充パッケージ のあるレトルト炉 VHT 100/15-KE H2 、1400 °C 水素を使用する運転用の拡充パッケージおよびプロセス容器のあるレトルト炉 VHT 40/16-MO H2

ガス管理システム

水素またはその他の可燃性ガスを使用する運転用のH2 バージョン

H2 バージョンでは、水素またはその他の可燃性ガス下でレトルト炉を運転できます。これらの用途のために、これらのシステムに必要な安全技術を実装します。安全に関連するセンサーには、認証された実証済みコンポーネントのみを採用しています。レトルト炉はフェールフリー設計の制御システム(S7-300 F /安全制御)で制御します。

  • 認証されたセーフティコンセプト
  • 自動化パッケージ
  • 水素用の冗長ガスインレットバルブ
  • すべてのプロセスガスの予備加圧を監視
  • 不活性ガスによって炉室を安全に洗浄するためのバイパス
  • 自動開閉電磁弁のある圧力が監視された緊急時用パージ容器
  • H2 アフターバーニング用の排ガスフレア装置(電気またはガス加熱式)
  • 雰囲気運転: 室温を超えるレトルト内での制御された過圧(相対圧 50 mbar)の場合のH2供給

追加装備

  • 分圧運転: 750  °C 炉室温度を超えるレトルト内での制御された負圧(分圧)の場合の H2供給
  • 水素下での脱バインダー用のレトルト内のプロセス容器
  • 監視、文書化、制御用の Nabertherm コントロールセンター NCC によるプロセス制御および文書化