密閉型レトルト炉には、温度に相応して直接あるいは間接的加熱方式を採用します。所定の不活性ガスあるいは反応ガス雰囲気が要求される多様な熱処理プロセスに最適です。最高 600 ℃ 迄の真空下の熱処理にもこのようなコンパクト機種を応用できます。炉室は密閉型レトルトで構成されています。ドア領域は特殊シールを保護する水冷方式を採用しています。水素のような反応ガスの使用にも相応の安全技術を採用しています。また、IDB 装備では不活性ガスでの脱バインダーあるいは熱分解が可能です。

プロセスに要求される温度領域に対応して、以下に列記する種々の機種が採用されます:

NRA ../06 機種、最高温度 650 ℃

• レトルト内部に配備された発熱体
• 有効空間における温度均一性は最高 +/- 5 °C
• ステンレス製レトルト (1.4571)
• レトルト後方部に装備された循環ファンによる最適な温度均一性を確保

NRA ../09 機種、最高温度 950 ℃

• レトルト周辺を発熱体で外側から加熱
• 有効空間における温度均一性は最高 +/- 5 °C
• ステンレス製レトルト (1.4841)
• レトルト後方部に装備された循環ファンによる最適な温度均一性を確保

NR ../11 機種、最高温度 1100 ℃

• レトルト周辺を発熱体で外側から加熱
• 有効空間における温度均一性は最高 +/- 5 °C
• ステンレス製レトルト (1.4841)

基本装備

• フレーム構造のコンパクトなケーシングとステンレス製のプレート
• 制御およびガスパージを炉ケーシングに統合
• 空気循環式炉の中のレトルトもしくはエアバッフル容器に溶接されたチャージ架台
• 開放型水冷システムを装備した右開きドア
• 炉の大きさにより950  用と1100  用の制御装置を一カ所または複数箇所の加熱ゾーンに分配しています。
• レトルト外部の温度計測を装備したー炉温度制御
• フローメーターおよび手動バルブ付き不燃性保護ガス/反応ガスのガスパージシステム
• 600 迄真空を可能にする真空ポンプのオプション
• 室温真空用の真空ポンプの接続が可能
• 操作説明書の枠内における規定どおりの使用
• ナーバサーム・コントローラー用NTLog Basic、プロセスデータをUSBスティックに記録

追加装備

• その他の不燃性ガスに対応した装備
• 流出量変化に対応するMFC・流量装置を含む自動ガスパージ、プロセス制御装置H3700,H1700による制御
• 600 迄レトルトの真空を可能にする真空ポンプの機種によっては真空度 10^-5 mbar を実現
• プロセス時間を短縮する冷却システム
• 閉鎖循環系水冷熱交換器によるドア冷却
• 残存酸素量の測定装置
• ドアヒーター
• レトルト内部・外部の温度計測を装備したチャージ温度制御
• ガス供給用磁石式バルブ、制御装置で切替
• VCDソフトウエアセットによるプロセス制御またはナーバテルム・コントロールセンター NCCによる監視・ドキュメンテーション・制御

レトルト炉SRおよびSRA(ガス循環能付き）は不燃性または可燃性の保護ガス反応ガス雰囲気下での運転に適しています。クレーンまたは運用サイドで使用するその他の吊上装置を使って上方から装入します。このため、高重量装入物の炉室内への装入が可能になります。

炉の稼動温度に応じて、以下の機種を用意しています:

NR .../11 機種、最高温度 1100 ℃

• レトルト外部からの循環加熱
• 有効空間における温度均一性は最高 +/- 5 °C
• ステンレス製レトルト (1.4841)
• 上から下に向けて複数ゾーン制御

SRA ../09 機種、最高温度 950 ℃

• SR .../11 機種と同様、但し以下の点で相違: , 75ページを参照
  • 温度均一性、 有効空間+/- 5 °Cに達する、炉蓋に装備された高出力ファンによる大気循環

SRA ../06 機種、最高温度 600 ℃

• SRA .../09 機種と同様、但し以下の点で相違: 75ページを参照
  • レトルト内部の加熱を指示
  • 単一ゾーン制御
  • ステンレス製レトルト (1.4571)

基本装備 (全機種)

• NR および NRA 機種の基本装備と同様、但し以下の点で相違:
  • 運用サイドで使用しているクレーンまたは吊上装置を使って上方から装入
  • 横開き旋回蓋
  • 操作説明書の枠内における規定どおりの使用
  • ナーバサーム・コントローラー用NTLog Basic、プロセスデータをUSBスティックに記録

• 追加装備、H₂仕様とIDB仕様に関してはNRとNRAモデルを参照

コンパクトタイプの VHT シリーズは、黒鉛、モリブデン、タングステンまたは MoSi₂ を加熱装置として採用した電気加熱式チャンバー炉です。多様な加熱構想の他にも、レトルト炉はアクセサリーも包括的に取り揃えているため、厳しい技術が要求されるプロセスにも適用できます。

真空密封型プロセス容器は、不活性/反応ガス雰囲気下での熱処理プロセスを可能にします。炉の仕様によっては最高 10^-5 mbar の真空度を確保します。基本型炉は不燃性の保護ガス反応ガス雰囲気下あるいは真空下での運転に適しています。 H₂タイプは水素またはその他の可燃性ガスを使用する運転に適しています。このタイプの中核をなすのが認証許可済みの安全装備です。いかなる時も安全運転を確保すると同時に、エラー発生時には相応の非常プログラムが作動します。

基本的に以下のプロセス要求用のモデルが入手可能です

VHT ../..-GR、黒鉛を採用した断熱および加熱

• 不活性/反応ガス雰囲気または真空下のプロセス
• 最高温度: 1800 または 2200 (2400 °C は追加装備)
• 使用するポンプのタイプに応じて、10^-4 mbar 迄の真空度
• 黒鉛断熱

モリブデンまたはタングステン製ヒーターを装備したVHT ../..-MO または VHT ../..-W

• 不活性/反応ガス雰囲気または高真空下の高純度プロセスに適用
• Tmax は 1200 、1600 または 1800 (表を参照)
• 使用するポンプのタイプに応じて、10^-5 mbar 迄の真空度
• モリブデンならびタングステン放射プレートによる断熱

VHT ../..-KE、ファイバー断熱および二珪化モリブデン発熱体による加熱

• 不活性/反応ガス雰囲気、大気または真空下のプロセスに適用
• 最高温度 1800
• 使用するポンプのタイプに応じて、10^-2 mbar (最高 1300 ) 迄の真空度
• 高純度の酸化アルミニウムファイバーによる断熱

基本装備

• 標準型炉室容量は 8 - 500 リットル
• 耐熱性 Oリングでシールされた全面水冷式のステンレス製プロセス容器
• 鋼鉄製プロファイルから成る堅牢なフレームは、ステンレス製カウリングが取り外しできるためメンテナンスが容易
• VHT 8 のケーシングには炉の走行を容易にするローラーを装備
• 順流・逆流を手動で開閉できるコックを備えた水冷配分器、自動流量監視、開放型冷却システム
• 流量や温度の表示および超過温度の安全装置を備えた調整可能な水冷循環システム
• スイッチボードおよび制御器をケーシングに統合
• プログラムを入力し可視化する 7“ インチ タッチパネルを備えたプロセス制御装置H700。20セグメント構成のプログラムを10種類保存可能
• 手動設定可能な過昇温計 (熱保護等級 2、EN 60519-2 に準拠)
• プロセス機能および真空機能の手動操作
• プロセスガスの (N₂、Arまたは不燃性フォーミングガス) の流量を調整可能な手動式ガスパージ
• 手動バルブを装備したバイパスで不活性ガスを炉室内にスピーディに充填・パージ
• 加圧下での炉の運転用オーバーフローバルブ (相対圧 20 mbar) を装備した手動式ガスアウトレット
• ボールコックを装備した一段型ロータリースライドポンプによる予備排気、および最高 5 mbar の低真空熱処理
• マノメーターで圧力監視を可視化
• 操作説明書の枠内における規定どおりの使用

追加装備

• モデルVHT 40/..-GRより最高温度2400
• ケーシング区分して小型のドア開口部から装入可能なオプション (VHT 08)
• セカンドプロセス (N₂、Arまたは不燃性フォーミングガス) 用に流量調整可能な手動型ガスパージおよびバイパス
• モリウデン、タングステン、黒鉛またはCFC製のプロセス容器、特に解離プロセスに奨励。ガス注入排出が直接可能なケーシングは炉室に設置され、温度均一性が向上します。 脱バインダーの間、バインダーを含む排ガスは直接内側から排出されます。脱バインダー後のガスパージの入れ替えにより、焼結過程の間にプロセスガス雰囲気が浄化されます。
• 装入物に取り付けた表示付きの熱電対
• 最高温度 2200 用の機種はパイロメーター、Sタイプの熱電対および自動取り出し装置を備え、低温領域における卓越した制御効果を発揮 (VHT 40/..-GR 以降)
• ボールコックを装備した二段型ロータリースライドポンプによる予備排気、および中真空熱処理（最高10^-2 mbar）
• シャットオフスライドを備えたターボモレキュラーポンプによる予備排気、および高真空熱処理（最高10^-5 mbar）。電気圧力センサーおよびプライマリーポンプを含む
• その他の真空ポンプについてはお問い合わせください。
• 閉鎖循環式水冷熱交換器
• プロセス制御装置H3700 を備えたオート装備
  • 12インチのグラフィックタッチパネル
  • 温度、加熱レート、ガスパージ、真空等の全プロセスデータをタッチパネルで入力
  • プロセス制御画面上でプロセスに関与する全データを可視化
  • 流量調整可能なプロセスガス(N₂、Arまたは不燃性フォーミングガス)用の自動ガスパージ
  • プロセスガスを容器にパージ・充填するためのプログラム制御式バイパス
  • 炉の安全運転に向けて、漏洩チェックを含め、予備・後続プログラムの自動化
  • 加圧下での炉の運転用ベローズバルブおよびオーバーフロバルブ (相対圧 20 mbar) を装備した自動ガス排気
  • 絶対圧および相対圧用の圧力センサー
• 流量変更を質量・流量制御する他、セカンドプロセスガスで混合ガスを発生させる装置 (オート装備を採用した場合のみ)
• 分圧運転: 負圧制御下での不活性ガス流入 (オート装備を採用した場合のみ)
• 監視、記録、制御用で、ナーバテルムのコントロールセンターNCCを通しプロセス制御と記録

H₂仕様は水素およびその他の可燃性ガス下でレトルト炉運転が可能。必要とされる安全技術が炉に追加装備されています。安全に関するセンサーには相応の認証を受けた実証済みの部品だけを採用しています。エラーフリーの制御装置 (S7-300F/安全制御) で炉の運転がコントロールされます。

• 認証許可済みの安全構想
• オート装備 (上記の追加装備を参照)
• 水素流入用冗長バルブ
• 全プロセスのガス圧許容値を監視
• 不活性ガスを炉室内に安全にパージするためのバイパス
• 自動的に開放するソレノイドバルブを備えた圧力監視付き非常パージ容器
• H₂アフターバーニング用の排ガスフレア (電気またはガス加熱式)
• 運転雰囲気: 室温以上で過圧 (相対圧 50 mbar) に制御されたプロセス容器で H₂を流入

追加装備

• 750 以上の炉温で負圧 (分圧) に制御されたプロセス容器で H₂を流入
• 水素雰囲気下の脱バインダー処理のためにプロセス容器内に収納されたプロセスケーシング
• 監視、記録、制御用で、ナーバテルムのコントロールセンターNCCを通しプロセス制御と記録

SVHT シリーズのレトルト炉は VHT機種 (62 ページ以降) と比較して、真空度や最高温度の性能が更に優れています。タングステンヒーターを装備した SVHT ..-W シャフト炉は、高真空度でも最高温度 2400 ℃のプロセスが可能です。黒鉛ヒーターを装備したシャフト炉 SVHT ..-GR 機種は希ガス雰囲気では最高温度 3000 ℃のプロセスも可能です。

• 標準型炉室容量は 2 または 9 リットル
• 上から装入するシャフト炉
• ステンレスプレートを組み込んだフレーム構造
• 水冷式二重壁構造のステンレススチール容器
• 手動操作によるプロセスガス機能および真空機能
• 手動操作による不燃性プロセスガスパージ装置
• 人間工学的装入高さを実現するステップを炉の前に設置
• ガス圧ダンパーを装備した容器カバー
• 炉のハウジングに統合された作動・制御装置
• 操作説明書の枠内における規定どおりの使用
• 標準製品のその他の性能は62 ページ以降の VHT 標準モデルの内容を参照

ヒーターの選択肢

SVHT ..-GR

• 適用プロセス:
  • 不活性/活性ガス雰囲気または真空下で、適した上限温度の監視
  • アルゴンガス雰囲気で、最高温度は 3000
• 使用するポンプのタイプに応じて、 10^-4 mbar 迄の真空度
• 加熱:円筒状に配備された黒鉛発熱体
• 断熱:黒鉛断熱
• 光学式パイロメーターによる温度計測

SVHT ..-W

• 不活性/活性ガス雰囲気または真空下のプロセスで、最高温度 2400 に対応
• 使用するポンプのタイプに応じて、 10^-5 mbar 迄の真空度
• 加熱: 円筒状に配備されたタングステン加熱モジュール
• 断熱:タングステンおよびモリブデン製のスチールプレート
• サーモエレメントのCタイプによる温度測定

• プロセスガスの自動制御や可燃性ガスを使用するプロセス、安全システム等に対する追加装備は62ページ以降の VHT 機種を参照

LBVHTシリーズの昇降底型レトルト炉は、保護ガスや反応ガスまたは真空雰囲気が必要なプロセスに最適です。この機種は基本的にはVHTシリーズの構造です。電気油圧駆動の昇降底構造やサイズで、特に製造でのワーク装入が容易になります。サイズと仕様の炉を取り揃えています。またVHT型と同様、様々な加熱方式に対応しています。

• 100～600リッターまでの標準サイズの昇
• 降底型レトルト炉　電気油圧駆動のテーブル装備で装入簡易
• 重量搬入物に対応
• 加熱コンセプトの種類
  • 最高温度2400 の黒鉛ヒーター装備
  • 最高温度1600 のモリブデンヒーター
  • 最高温度2000 タングステンヒーター
• ステンレス鋼プレートとアルミニウムフレーム構造
• ガスパージ付き基本装備、不燃性の保護ガス反応ガス向け
• 自動ガスパージシステム、多種のプロセスガス使用の場合は追加装備
• 水素など可燃性の反応ガス下の運転向けのガスパージシステム（追加装備として安全キットも含む）
• スイッチ、制御装置およびガスパージは炉ケーシングに統合
• 標準製品のその他の性能および追加装備に関して62ページ以降のVHT炉の記述をご参照ください。

チャンバーレトルト炉 NRA 40/02 CDB および NRA 150/02 CDB は、粉末射出成形されたセラミックおよび金属構成部品の触媒方式脱バインダー処理専用に開発されました。内側加熱式のガス密閉型レトルトを備えた熱風循環炉です。触媒方式脱バインダーではポリアセタール (POM) を含むバインダーが硝酸に作用されて炉室内で化学的に分解され、窒素キャリアガスによって炉外へ送られて排ガスフレアで焼却されます。オペレーターや周囲を保護するため、どちらの機種も包括的な安全装備を備えています。 コンビ炉CTDBとしての仕様では、製品を触媒およびサーム脱バインダー、また必要と製品の仕様特性に応じて初期焼結ができます。初期焼結された部品は、残留バインダーで汚染されずに、容易に焼結炉に移動できます。

• 耐酸ステンレス製 (1.4571) のプロセス容器には大型ドアを装備
• クロム鋼チューブヒーターでレトルト内部を四面加熱するため、均一な温度分布を実現
• 水平熱風循環でプロセスガスを均一に分布
• 酸ポンプおよび運用サイドの酸容器を炉台に統合
• ガス加熱式の排ガスフレアに火炎監視を装備
• LPC制御の冗長的安全装置を備えた包括的安全装備は、硝酸を使用する運転の安全性を確保します。
• グラフィック表示機能をもつ大型タッチパネル H3700 でプロセスのデータ入力および可視化
• 炉洗浄用の緊急用空気タンク故障の場合
• 操作説明書の枠内における規定どおりの使用

NRA .. CDB 機種

• 最高温度 200
• マスフローメーターを装備した窒素の自動ガスパージシステム
• 酸の消費量は調整可能で、それに対応したパージガス容量

NRA .. CTDB仕様

• 安全構想
• 大気循環付き600 および900 向けモデルも用意

追加装備

• 硝酸容器の計量機は、酸の消費を監視し、酸容器の充填レベルを可視化する PLC 制御に接続 (NRA 150/02 CDB)
• 炉の装入を容易にするリフトトラック
• アシッドポンプ用キャビネット
• 監視、記録、制御用で、ナーバテルムのコントロールセンターNCCを通しプロセス制御と記録